后浪真空薄膜技术与装备实验室长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术（高功率脉冲磁控溅射HiPIMA、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等）、核心装备、等离子体模拟、涂层/薄膜材料与应用方面的研究。

更新时间：2023-05-21

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更新时间：2023-04-29

后浪真空薄膜技术与装备实验室长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术（高功率脉冲磁控溅射HiPIMA、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等）、核心装备、等离子体模拟、涂层/薄膜材料与应用方面的研究。

更新时间：2023-04-25

采用具有国际先进水平的主机设备、生产技术及检测手段，生产包括PI、TPI、PET及PEN等不同材质的挠性覆铜板、覆盖膜、纯胶膜、补强板、粘结膜等产品，可为客户带来一站式的产品解决方案。

更新时间：2023-04-13